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產(chǎn)品資料

日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列

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產(chǎn)品名稱: 日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列
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產(chǎn)品展商: 其它品牌
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簡單介紹

日本AMAYA株式會社天谷制作所用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備特征這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng)，其中多個晶圓被裝入一個大托盤中，托盤在分散頭下往復(fù)運(yùn)動以形成薄膜。它可用于變形的基材。它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。性能均勻的薄膜厚度取決于薄膜類型和厚度支持的晶圓尺寸根據(jù)可加


日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列  的詳細(xì)介紹

日本AMAYA株式會社天谷制作所

用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列


產(chǎn)品信息

用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備

D501系列

  • 用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備

圖片關(guān)鍵詞

特征

  • 這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng)，其中多個晶圓被裝入一個大托盤中，托盤在分散頭下往復(fù)運(yùn)動以形成薄膜。

  • 它可用于變形的基材。

  • 它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。

性能

均勻的薄膜厚度取決于薄膜類型和厚度
支持的晶圓尺寸根據(jù)可加熱區(qū)
氣體種類SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O3， TMA 可選）
薄膜沉積溫度350°C~450°C
生產(chǎn)力-

主要規(guī)格

設(shè)備尺寸1200毫米（寬） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高）
加熱機(jī)構(gòu)電阻加熱
裝載卸載手動方法
分散頭（氣體噴嘴）A63頭


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