高溫階段“基板加熱”1800℃
如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
高溫階段“基板加熱”1800℃
產(chǎn)品型號:
日本thermocera總代理是哪家
產(chǎn)品展商:
其它品牌
產(chǎn)品文檔:
無相關文檔
簡單介紹
日本thermocera高溫階段“基板加熱"1800℃加熱，板上/下板，板旋轉，RF / DC板偏置可以根據(jù)設備配置自由定制，Depo-Up和Down，定制板支架，板旋轉/上/下/上/下，傾斜加熱和反向濺射等各種功能都包含在該單元中。各種加熱絲：NiCr，石墨，CCC，Inconel，鎢，鉬，SiC / PBN / PG涂層，鹵素燈和其他10種類型
高溫階段“基板加熱”1800℃ 的詳細介紹
日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃
加熱，板上/下板，板旋轉，RF / DC板偏置
可以根據(jù)設備配置自由定制，Depo-Up和Down，定制板支架，板旋轉/上/下/上/下，傾斜加熱和反向濺射等各種功能都包含在該單元中。
各種加熱絲：NiCr，石墨，CCC，Inconel，鎢，鉬，SiC / PBN / PG涂層，鹵素燈和其他10種類型
總覽
基板加熱階段需要加熱階段，例如垂直提升機構（基板支架和加熱頭中的一個或兩個），基板旋轉，RF / DC基板偏壓（反向飛濺RF / DC清潔）和加熱部分傾斜。它是具有多種功能的“多合一”組件。我們可以滿足對半導體制造設備和各種真空設備（氣相沉積設備，濺射，CVD設備）的所有要求。
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
應用/用例
?半導體制造，薄膜的實驗設備，RF / DC反濺射，PECVD，RIE等
?用熱臺（800℃說明書→修飾以醉高1600℃）更換現(xiàn)有設備的加熱機構
?新工藝評價機器，樣機，等
|
|
|
|
|
|
|
|
加熱部位規(guī)格
?NiCr加熱器
?Inconel加熱器
?鎢加熱器
?鉬加熱器
?鹵素燈加熱器
?石墨加熱器
?C / C復合加熱器
?各種涂層加熱器（PG，PBN，SiC涂層，玻璃碳）
*工作溫度和數(shù)據(jù)均為“陶瓷頂”?請參閱“加熱器”。
|
|
|
|
|
|
日本thermocera高溫階段“基板加熱”1800℃
